Procesos de grabado seco de silicio monocristalino con alta velocidad de grabado y anisotropía para su aplicación en la fabricación de MEMS

Se presentan los resultados experimentales del grabado seco de silicio monocristalino para su aplicaci ´on en la fabricaci´on de sistemas microelectro-mec´anicos (MEMS) utilizando un reactor RIE/ICP. Se analiz´o la contribuci´on de las componentes f´ısica y qu´ımica sobre la velocidady per...

Mô tả đầy đủ

Chi tiết về thư mục

Xuất bản năm:	Revista Mexicana de Física
Những tác giả chính:	C. Álvarez-Macias, C. Reyes-Betanzo
Định dạng:	Artigo
Ngôn ngữ:	Espanhol
Được phát hành:	Sociedad Mexicana de Física A.C. 2007
Những chủ đề:	Física, Astronomía y Matemáticas
Truy cập trực tuyến:	https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57053610
Các nhãn:	Thêm thẻ Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!