Procesos de grabado seco de silicio monocristalino con alta velocidad de grabado y anisotropía para su aplicación en la fabricación de MEMS

Se presentan los resultados experimentales del grabado seco de silicio monocristalino para su aplicaci ´on en la fabricaci´on de sistemas microelectro-mec´anicos (MEMS) utilizando un reactor RIE/ICP. Se analiz´o la contribuci´on de las componentes f´ısica y qu´ımica sobre la velocidady per...

Deskribapen osoa

Xehetasun bibliografikoak

Argitaratua izan da:	Revista Mexicana de Física
Egile Nagusiak:	C. Álvarez-Macias, C. Reyes-Betanzo
Formatua:	Artigo
Hizkuntza:	Espanhol
Argitaratua:	Sociedad Mexicana de Física A.C. 2007
Gaiak:	Física, Astronomía y Matemáticas
Sarrera elektronikoa:	https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57053610
Etiketak:	Etiketa erantsi Etiketarik gabe, Izan zaitez lehena erregistro honi etiketa jartzen!