Procesos de grabado seco de silicio monocristalino con alta velocidad de grabado y anisotropía para su aplicación en la fabricación de MEMS
Se presentan los resultados experimentales del grabado seco de silicio monocristalino para su aplicaci ´on en la fabricaci´on de sistemas microelectro-mec´anicos (MEMS) utilizando un reactor RIE/ICP. Se analiz´o la contribuci´on de las componentes f´ısica y qu´ımica sobre la velocidady per...
Enregistré dans:
| Publié dans: | Revista Mexicana de Física |
|---|---|
| Auteurs principaux: | , |
| Format: | Artigo |
| Langue: | Espanhol |
| Publié: |
Sociedad Mexicana de Física A.C.
2007
|
| Sujets: | |
| Accès en ligne: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57053610 |
| Tags: |
Pas de tags, Soyez le premier à ajouter un tag!
|