Procesos de grabado seco de silicio monocristalino con alta velocidad de grabado y anisotropía para su aplicación en la fabricación de MEMS

Se presentan los resultados experimentales del grabado seco de silicio monocristalino para su aplicaci ´on en la fabricaci´on de sistemas microelectro-mec´anicos (MEMS) utilizando un reactor RIE/ICP. Se analiz´o la contribuci´on de las componentes f´ısica y qu´ımica sobre la velocidady per...

תיאור מלא

מידע ביבליוגרפי

הוצא לאור ב:	Revista Mexicana de Física
Principais autores:	C. Álvarez-Macias, C. Reyes-Betanzo
פורמט:	Artigo
שפה:	Espanhol
יצא לאור:	Sociedad Mexicana de Física A.C. 2007
נושאים:	Física, Astronomía y Matemáticas
גישה מקוונת:	https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57053610
תגים:	הוספת תג אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!