Procesos de grabado seco de silicio monocristalino con alta velocidad de grabado y anisotropía para su aplicación en la fabricación de MEMS

Se presentan los resultados experimentales del grabado seco de silicio monocristalino para su aplicaci ´on en la fabricaci´on de sistemas microelectro-mec´anicos (MEMS) utilizando un reactor RIE/ICP. Se analiz´o la contribuci´on de las componentes f´ısica y qu´ımica sobre la velocidady per...

Olles dieđut

Bibliográfalaš dieđut

Publikašuvnnas:	Revista Mexicana de Física
Váldodahkkit:	C. Álvarez-Macias, C. Reyes-Betanzo
Materiálatiipa:	Artigo
Giella:	Espanhol
Almmustuhtton:	Sociedad Mexicana de Física A.C. 2007
Fáttát:	Física, Astronomía y Matemáticas
Liŋkkat:	https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57053610
Fáddágilkorat:	Lasit fáddágilkoriid Eai fáddágilkorat, Lasit vuosttaš fáddágilkora!