Procesos de grabado seco de silicio monocristalino con alta velocidad de grabado y anisotropía para su aplicación en la fabricación de MEMS
Se presentan los resultados experimentales del grabado seco de silicio monocristalino para su aplicaci ´on en la fabricaci´on de sistemas microelectro-mec´anicos (MEMS) utilizando un reactor RIE/ICP. Se analiz´o la contribuci´on de las componentes f´ısica y qu´ımica sobre la velocidady per...
Sábháilte in:
| Foilsithe in: | Revista Mexicana de Física |
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| Príomhchruthaitheoirí: | , |
| Formáid: | Artigo |
| Teanga: | Espanhol |
| Foilsithe / Cruthaithe: |
Sociedad Mexicana de Física A.C.
2007
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| Ábhair: | |
| Rochtain ar líne: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57053610 |
| Clibeanna: |
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