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Fabricación de guías de onda ópticas en silicio utilizando óxido de silicio y nitruro de silicio
Se diseñaron y fabricaron guías de onda ópticas planares de índice abrupto utilizando películas de óxido de silicio (SiO2) y nitruro de silicio (Si3N4) obtenidas por técnica PECVD. Debido a las características ópticas, mecánicas y eléctricas, se eligió el silicio como material de sustrato. Pruebas d...
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| Publicado no: | Superficies y vacío |
|---|---|
| Main Authors: | , , , |
| Formato: | Artigo |
| Idioma: | Espanhol |
| Publicado em: |
Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
2005
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| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94218405 |
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