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Fabricación de guías de onda ópticas en silicio utilizando óxido de silicio y nitruro de silicio

Se diseñaron y fabricaron guías de onda ópticas planares de índice abrupto utilizando películas de óxido de silicio (SiO2) y nitruro de silicio (Si3N4) obtenidas por técnica PECVD. Debido a las características ópticas, mecánicas y eléctricas, se eligió el silicio como material de sustrato. Pruebas d...

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Pubblicato in:Superficies y vacío
Autori principali: Rosa Chávez Velázquez, Ignacio Zaldívar Huerta, Claudia Reyes Betanzo, Alejandro Díaz Sánchez
Natura: Artigo
Lingua:Espanhol
Pubblicazione: Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 2005
Soggetti:
Accesso online:https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94218405
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