লোডিং...
Area-Selective Atomic Layer Deposition of SiO(2) Using Acetylacetone as a Chemoselective Inhibitor in an ABC-Type Cycle
[Image: see text] Area-selective atomic layer deposition (ALD) is rapidly gaining interest because of its potential application in self-aligned fabrication schemes for next-generation nanoelectronics. Here, we introduce an approach for area-selective ALD that relies on the use of chemoselective inhi...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রকাশিত: | ACS Nano |
|---|---|
| প্রধান লেখক: | , , , , , |
| বিন্যাস: | Artigo |
| ভাষা: | Inglês |
| প্রকাশিত: |
American
Chemical Society
2017
|
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5665545/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/28850774 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1021/acsnano.7b04701 |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|