Area-Selective Atomic Layer Deposition of In(2)O(3):H Using a μ-Plasma Printer for Local Area Activation

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Detalhes bibliográficos
Publicado no:Chem Mater
Main Authors: Mameli, Alfredo, Kuang, Yinghuan, Aghaee, Morteza, Ande, Chaitanya K., Karasulu, Bora, Creatore, Mariadriana, Mackus, Adriaan J. M., Kessels, Wilhelmus M. M., Roozeboom, Fred
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: American Chemical Society 2017
Acesso em linha:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5384477/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/28405058
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1021/acs.chemmater.6b04469
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