Ładuje się......
Scaling behavior of nanoimprint and nanoprinting lithography for producing nanostructures of molybdenum disulfide
Top-down lithography techniques are needed for manufacturing uniform device structures based on emerging 2D-layered materials. Mechanical exfoliation approaches based on nanoimprint and nanoprint principles are capable of producing ordered arrays of multilayer transition metal dichalcogenide microst...
Zapisane w:
| Wydane w: | Microsyst Nanoeng |
|---|---|
| Główni autorzy: | , , , |
| Format: | Artigo |
| Język: | Inglês |
| Wydane: |
Nature Publishing Group
2017
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6444983/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/31057879 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/micronano.2017.53 |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|