Načítá se...

Scaling behavior of nanoimprint and nanoprinting lithography for producing nanostructures of molybdenum disulfide

Top-down lithography techniques are needed for manufacturing uniform device structures based on emerging 2D-layered materials. Mechanical exfoliation approaches based on nanoimprint and nanoprint principles are capable of producing ordered arrays of multilayer transition metal dichalcogenide microst...

Celý popis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Vydáno v:Microsyst Nanoeng
Hlavní autoři: Chen, Mikai, Rokni, Hossein, Lu, Wei, Liang, Xiaogan
Médium: Artigo
Jazyk:Inglês
Vydáno: Nature Publishing Group 2017
Témata:
On-line přístup:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6444983/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/31057879
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/micronano.2017.53
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo otaguje tento záznam!