লোডিং...
One-Step Mask-Based Diffraction Lithography for the Fabrication of 3D Suspended Structures
We propose a novel one-step exposure method for fabricating three-dimensional (3D) suspended structures, utilizing the diffraction of mask patterns with small line width. An optical model of the exposure process is built, and the 3D light intensity distribution in the photoresist is calculated based...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রকাশিত: | Nanoscale Res Lett |
|---|---|
| প্রধান লেখক: | , , , , , |
| বিন্যাস: | Artigo |
| ভাষা: | Inglês |
| প্রকাশিত: |
Springer US
2018
|
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6281547/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/30519820 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/s11671-018-2817-6 |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|