Atomic layer deposition and properties of ZrO(2)/Fe(2)O(3) thin films

Thin solid films consisting of ZrO(2) and Fe(2)O(3) were grown by atomic layer deposition (ALD) at 400 °C. Metastable phases of ZrO(2) were stabilized by Fe(2)O(3) doping. The number of alternating ZrO(2) and Fe(2)O(3) deposition cycles were varied in order to achieve films with different cation rat...

সম্পূর্ণ বিবরণ

সংরক্ষণ করুন:
গ্রন্থ-পঞ্জীর বিবরন
প্রকাশিত:Beilstein J Nanotechnol
প্রধান লেখক: Kalam, Kristjan, Seemen, Helina, Ritslaid, Peeter, Rähn, Mihkel, Tamm, Aile, Kukli, Kaupo, Kasikov, Aarne, Link, Joosep, Stern, Raivo, Dueñas, Salvador, Castán, Helena, García, Héctor
বিন্যাস: Artigo
ভাষা:Inglês
প্রকাশিত: Beilstein-Institut 2018
বিষয়গুলি:
Full Research Paper
অনলাইন ব্যবহার করুন:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5789441/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/29441257
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3762/bjnano.9.14
ট্যাগগুলো: ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!

অনুরূপ উপাদানগুলি