লোডিং...
Fabrication of high performance thin-film transistors via pressure-induced nucleation
We report a method to improve the performance of polycrystalline Si (poly-Si) thin-film transistors (TFTs) via pressure-induced nucleation (PIN). During the PIN process, spatial variation in the local solidification temperature occurs because of a non-uniform pressure distribution during laser irrad...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রধান লেখক: | , , |
|---|---|
| বিন্যাস: | Artigo |
| ভাষা: | Inglês |
| প্রকাশিত: |
Nature Publishing Group
2014
|
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4215323/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/25358809 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/srep06858 |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|