Óxido de silicio SOG como dieléctrico de compuerta recocido a 200°C
En este trabajo, se ha realizado la caracterización del oxido de silicio SOG (SOG-SiO2) depositado por la técnica sol-gel y recocido a 200 °C. Los resultados de la caracterización óptica y eléctrica muestran que los valores del índice de refracción (n) y de la constante dieléctrica (k) son muy cerca...
-д хадгалсан:
| -д хэвлэсэн: | Superficies y vacío |
|---|---|
| Үндсэн зохиолчид: | , , , , , , , |
| Формат: | Artigo |
| Хэл сонгох: | Espanhol |
| Хэвлэсэн: |
Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
2011
|
| Нөхцлүүд: | |
| Онлайн хандалт: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94218546001 |
| Шошгууд: |
Шошго байхгүй, Энэхүү баримтыг шошголох эхний хүн болох!
|
