Charge trapping phenomenon in Al/SRO/Al on Si structure by lateral electrical stress

In this article, the observation of charge trapping effect of silicon rich oxide (SRO) layer in an Al/SRO/Al on Si structureby lateral electrical stress is reported. The density of trapped charges depends on the deposition and post-treatmentconditions of the SRO layer. For the Al/SRO/Al structure gr...

Descripció completa

Dades bibliogràfiques

Publicat a:	Superficies y vacío
Autors principals:	Yu Zhenrui, Jesús Carrillo, Fracisco Flores, Mariano Aceves
Format:	Artigo
Idioma:	Inglês
Publicat:	Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 2003
Matèries:	Física, Astronomía y Matemáticas
Accés en línia:	https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94216406
Etiquetes:	Afegir etiqueta Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!