Modelado de la región de deserción en la estructura Aluminio/SRO/ Silicio
Dispositivos de Aluminio/Óxido de silicio rico en Silicio/Silicio (Al/SRO/Si) se caracterizaron experimentalmentemidiendo sus características I-V y C-V. Se utilizaron varios valores de R0 (R0 = [N2O]/[SiH4]), que es la razón de flujosde óxido nitroso y silano. Dependiendo del exceso de silicio, el d...
Sparad:
| I publikationen: | Superficies y vacío |
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| Huvudupphov: | , , |
| Materialtyp: | Artigo |
| Språk: | Espanhol |
| Utgiven: |
Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
2002
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| Ämnen: | |
| Länkar: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94201511 |
| Taggar: |
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