Yüklüyor......

Plasma characterization of pulsed-laser ablation process used for fullerene-like CNx thin film deposition

Kaydedildi:
Detaylı Bibliyografya
Yayımlandı:Brazilian Journal of Physics
Asıl Yazarlar: H. Riascos, G. Zambrano, P. Prieto
Materyal Türü: Artigo
Dil:Inglês
Baskı/Yayın Bilgisi: Sociedade Brasileira de Física 2004
Konular:
Online Erişim:https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=46434814
Etiketler: Etiketle
Etiket eklenmemiş, İlk siz ekleyin!