Carregant...

Plasma characterization of pulsed-laser ablation process used for fullerene-like CNx thin film deposition

Guardat en:
Dades bibliogràfiques
Publicat a:Brazilian Journal of Physics
Autors principals: H. Riascos, G. Zambrano, P. Prieto
Format: Artigo
Idioma:Inglês
Publicat: Sociedade Brasileira de Física 2004
Matèries:
Accés en línia:https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=46434814
Etiquetes: Afegir etiqueta
Sense etiquetes, Sigues el primer a etiquetar aquest registre!