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Plasma characterization of pulsed-laser ablation process used for fullerene-like CNx thin film deposition
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| Publicado no: | Brazilian Journal of Physics |
|---|---|
| Main Authors: | , , |
| Formato: | Artigo |
| Idioma: | Inglês |
| Publicado em: |
Sociedade Brasileira de Física
2004
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| Assuntos: | |
| Acesso em linha: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=46434814 |
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