Impact of Ions on Film Conformality and Crystallinity during Plasma-Assisted Atomic Layer Deposition of TiO(2)

[Image: see text] This work demonstrates that ions have a strong impact on the growth per cycle (GPC) and material properties during plasma-assisted atomic layer deposition (ALD) of TiO(2) (titanium dioxide), even under mild plasma conditions with low-energy (<20 eV) ions. Using vertical trench n...

תיאור מלא

שמור ב:
מידע ביבליוגרפי
הוצא לאור ב:Chem Mater
Main Authors: Arts, Karsten, Thepass, Harvey, Verheijen, Marcel A., Puurunen, Riikka L., Kessels, Wilhelmus M. M., Knoops, Harm C. M.
פורמט: Artigo
שפה:Inglês
יצא לאור: American Chemical Society 2021
גישה מקוונת:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC8280614/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/34276135
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1021/acs.chemmater.1c00781
תגים: הוספת תג
אין תגיות, היה/י הראשונ/ה לתייג את הרשומה!

פריטים דומים