Anisotropic silicon nanowire arrays fabricated by colloidal lithography

The combination of metal-assisted chemical etching (MACE) and colloidal lithography allows for the affordable, large-scale and high-throughput synthesis of silicon nanowire (SiNW) arrays. However, many geometric parameters of these arrays are coupled and cannot be addressed individually using colloi...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
الحاوية / القاعدة:Nanoscale Adv
المؤلفون الرئيسيون: Rey, Marcel, Wendisch, Fedja Jan, Aaron Goerlitzer, Eric Sidney, Julia Tang, Jo Sing, Bader, Romina Sigrid, Bourret, Gilles Remi, Vogel, Nicolas
التنسيق: Artigo
اللغة:Inglês
منشور في: RSC 2021
الموضوعات:
Chemistry
الوصول للمادة أونلاين:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC8204746/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/34212129
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1039/d1na00259g
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!

مواد مشابهة