تحميل...
UV Nanoimprint Lithography: Geometrical Impact on Filling Properties of Nanoscale Patterns
Ultraviolet (UV) Nanoimprint Lithography (NIL) is a replication method that is well known for its capability to address a wide range of pattern sizes and shapes. It has proven to be an efficient production method for patterning resist layers with features ranging from a few hundred micrometers and d...
محفوظ في:
| الحاوية / القاعدة: | Nanomaterials (Basel) |
|---|---|
| المؤلفون الرئيسيون: | , |
| التنسيق: | Artigo |
| اللغة: | Inglês |
| منشور في: |
MDPI
2021
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC8004728/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/33806976 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3390/nano11030822 |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|