লোডিং...
High-Speed and Direction-Controlled Formation of Silicon Nanowire Arrays Assisted by Electric Field
Metal-assisted chemical etching (MaCE), a low-cost and versatile method was considered a promising technique for preparing silicon nanowires (SiNWs), yet the lack of well controlling the injected holes within Si might reduce the etching rate, create the unwanted sidewall etching, and degrade the str...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রকাশিত: | Nanoscale Res Lett |
|---|---|
| প্রধান লেখক: | , , |
| বিন্যাস: | Artigo |
| ভাষা: | Inglês |
| প্রকাশিত: |
Springer US
2020
|
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6990330/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/32002703 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/s11671-020-3259-5 |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|