Ładuje się......
Thermophysical characterisation of VO(2) thin films hysteresis and its application in thermal rectification
Hysteresis loops exhibited by the thermophysical properties of VO(2) thin films deposited on either a sapphire or silicon substrate have been experimentally measured using a high frequency photothermal radiometry technique. This is achieved by directly measuring the thermal diffusivity and thermal e...
Zapisane w:
| Wydane w: | Sci Rep |
|---|---|
| Główni autorzy: | , , , , , , , , , , |
| Format: | Artigo |
| Język: | Inglês |
| Wydane: |
Nature Publishing Group UK
2019
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6584564/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/31217509 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/s41598-019-45436-0 |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|