Ładuje się......
Response under low-energy electron irradiation of a thin film of a potential copper precursor for focused electron beam induced deposition (FEBID)
Background: Focused electron beam induced deposition (FEBID) allows for the deposition of free standing material within nanometre sizes. The improvement of the technique needs a combination of new precursors and optimized irradiation strategies to achieve a controlled fragmentation of the precursor...
Zapisane w:
| Wydane w: | Beilstein J Nanotechnol |
|---|---|
| Główni autorzy: | , , , , |
| Format: | Artigo |
| Język: | Inglês |
| Wydane: |
Beilstein-Institut
2018
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5769079/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/29379701 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3762/bjnano.9.8 |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|