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Fermi Level Tuning of ZnO Films Through Supercycled Atomic Layer Deposition

A novel supercycled atomic layer deposition (ALD) process which combines thermal ALD process with in situ O(2) plasma treatment is presented in this work to deposit ZnO thin films with highly tunable electrical properties. Both O(2) plasma time and the number of thermal ALD cycles in a supercycle ca...

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Detalhes bibliográficos
Publicado no:Nanoscale Res Lett
Main Authors: Huang, Ruomeng, Ye, Sheng, Sun, Kai, Kiang, Kian S., de Groot, C. H. (Kees)
Formato: Artigo
Idioma:Inglês
Publicado em: Springer US 2017
Assuntos:
Acesso em linha:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5605484/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/28929410
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/s11671-017-2308-1
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