লোডিং...
An Inductively Coupled Plasma Source for the Gaseous Electronics Conference RF Reference Cell
In order to extend the operating range of the GEC RF Reference Cell, we developed an inductively coupled plasma source that replaced the standard parallel-plate upper-electrode assembly. Voltage and current probes, Langmuir probes, and an 80 GHz interferometer provided information on plasmas formed...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রকাশিত: | J Res Natl Inst Stand Technol |
|---|---|
| প্রধান লেখক: | , , , , |
| বিন্যাস: | Artigo |
| ভাষা: | Inglês |
| প্রকাশিত: |
[Gaithersburg, MD] : U.S. Dept. of Commerce, National Institute of Standards and Technology
1995
|
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4887237/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/29151752 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.6028/jres.100.032 |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|