Загрузка...
Coincident-site lattice matching during van der Waals epitaxy
Van der Waals (vdW) epitaxy is an attractive method for the fabrication of vdW heterostructures. Here Sb(2)Te(3) films grown on three different kind of graphene substrates (monolayer epitaxial graphene, quasi freestanding bilayer graphene and the SiC (6√3 × 6√3)R30° buffer layer) are used to study t...
Сохранить в:
| Опубликовано в: : | Sci Rep |
|---|---|
| Главные авторы: | , , , , , |
| Формат: | Artigo |
| Язык: | Inglês |
| Опубликовано: |
Nature Publishing Group
2015
|
| Предметы: | |
| Online-ссылка: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4677287/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/26658715 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/srep18079 |
| Метки: |
Добавить метку
Нет меток, Требуется 1-ая метка записи!
|