লোডিং...
SML resist processing for high-aspect-ratio and high-sensitivity electron beam lithography
A detailed process characterization of SML electron beam resist for high-aspect-ratio nanopatterning at high sensitivity is presented. SML contrast curves were generated for methyl isobutyl ketone (MIBK), MIBK/isopropyl alcohol (IPA) (1:3), IPA/water (7:3), n-amyl acetate, xylene, and xylene/methano...
সংরক্ষণ করুন:
| প্রধান লেখক: | , , |
|---|---|
| বিন্যাস: | Artigo |
| ভাষা: | Inglês |
| প্রকাশিত: |
Springer
2013
|
| বিষয়গুলি: | |
| অনলাইন ব্যবহার করুন: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC3617037/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/23531370 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1186/1556-276X-8-139 |
| ট্যাগগুলো: |
ট্যাগ যুক্ত করুন
কোনো ট্যাগ নেই, প্রথমজন হিসাবে ট্যাগ করুন!
|