An Improved YOLOv7-Tiny-Based Algorithm for Wafer Surface Defect Detection
Wafer surface defect detection is a critical component in the chip manufacturing process. To address the shortcomings of manual inspection and the limitations of existing machine learning methods, this paper proposes a wafer defect detection algorithm based on an improved YOLOv7-tiny. First, a coord...
Đã lưu trong:
| Những tác giả chính: | , , , |
|---|---|
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
IEEE
2025-01-01
|
| Loạt: | IEEE Access |
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://ieeexplore.ieee.org/document/10836686/ |
| Các nhãn: |
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|
