Effects of temperature and deposition time on the RF- sputtered CdTe films preparation

In this work, CdTe thin films were deposited by rf-sputtering at different substrate temperatures (room temperature (RT), 100, 150, 200, and 250 °C) and deposition times (30, 60, and 90 min). The applied power and vacuum pressure were maintained fixed for all depositions. A mean value of 18 .5 nm/s...

Szczegółowa specyfikacja

Opis bibliograficzny

Wydane w:	Superficies y vacío
Główni autorzy:	E. Camacho-Espinosa, E. Rosendo, T. Díaz, A. I. Oliva, V. Rejon, J. L. Peña
Format:	Artigo
Język:	Inglês
Wydane:	Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 2014
Hasła przedmiotowe:	Física, Astronomía y Matemáticas
Dostęp online:	https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94231175004
Etykiety:	Dodaj etykietę Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!