Propiedades ópticas, de composición y morfológicas de películas delgadas de SiOx depositadas por HFCVD
En el presente trabajo se estudian las propiedades morfológicas, de composición y ópticas de películas de óxido de silicio fuera de estequiometría (SiOx) mediante Microscopía de Fuerza Atómica (AFM), Espectroscopia Infrarroja por Transformada de Fourier (FTIR), Fotoluminiscencia (FL), Transmitancia...
Gorde:
| Argitaratua izan da: | Superficies y vacío |
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| Egile Nagusiak: | , , , , , , |
| Formatua: | Artigo |
| Hizkuntza: | Espanhol |
| Argitaratua: |
Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
2011
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| Gaiak: | |
| Sarrera elektronikoa: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94219281004 |
| Etiketak: |
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