Propiedades ópticas, de composición y morfológicas de películas delgadas de SiOx depositadas por HFCVD

En el presente trabajo se estudian las propiedades morfológicas, de composición y ópticas de películas de óxido de silicio fuera de estequiometría (SiOx) mediante Microscopía de Fuerza Atómica (AFM), Espectroscopia Infrarroja por Transformada de Fourier (FTIR), Fotoluminiscencia (FL), Transmitancia...

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Podrobná bibliografie

Vydáno v:	Superficies y vacío
Hlavní autoři:	D. E. Vázquez-Valerdi, J. A. Luna-López, G. García-Salgado, J. Carrillo-López, T. Díaz-Becerril, E. Rosendo, H. Juárez-Santiesteban
Médium:	Artigo
Jazyk:	Espanhol
Vydáno:	Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 2011
Témata:	Física, Astronomía y Matemáticas
On-line přístup:	https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94219281004
Tagy:	Přidat tag Žádné tagy, Buďte první, kdo vytvoří štítek k tomuto záznamu!