Propiedades ópticas, de composición y morfológicas de películas delgadas de SiOx depositadas por HFCVD

En el presente trabajo se estudian las propiedades morfológicas, de composición y ópticas de películas de óxido de silicio fuera de estequiometría (SiOx) mediante Microscopía de Fuerza Atómica (AFM), Espectroscopia Infrarroja por Transformada de Fourier (FTIR), Fotoluminiscencia (FL), Transmitancia...

Ausführliche Beschreibung

Bibliografische Detailangaben

Veröffentlicht in:	Superficies y vacío
Hauptverfasser:	D. E. Vázquez-Valerdi, J. A. Luna-López, G. García-Salgado, J. Carrillo-López, T. Díaz-Becerril, E. Rosendo, H. Juárez-Santiesteban
Format:	Artigo
Sprache:	Espanhol
Veröffentlicht:	Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 2011
Schlagworte:	Física, Astronomía y Matemáticas
Online-Zugang:	https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94219281004
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