Ion beam sputter deposition of low work function and GMR materials

Ion beam Sputter deposition (IBSD) has been under development for a number of years due to the flexibility it provides in the deposition of novel thin film materials. One of the unique characteristics of IBSD is the ability to deposit multicomponent or multilayered materials using a multi-target sin...

Szczegółowa specyfikacja

Opis bibliograficzny

Wydane w:	Superficies y vacío
Główni autorzy:	G. E. McGuire, D. Temple, M. Ray, D. Dausch, M. Lamvik
Format:	Artigo
Język:	Inglês
Wydane:	Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 1999
Hasła przedmiotowe:	Física, Astronomía y Matemáticas
Dostęp online:	https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94211324002
Etykiety:	Dodaj etykietę Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!