Ion beam sputter deposition of low work function and GMR materials
Ion beam Sputter deposition (IBSD) has been under development for a number of years due to the flexibility it provides in the deposition of novel thin film materials. One of the unique characteristics of IBSD is the ability to deposit multicomponent or multilayered materials using a multi-target sin...
Đã lưu trong:
| Xuất bản năm: | Superficies y vacío |
|---|---|
| Những tác giả chính: | , , , , |
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
1999
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94211324002 |
| Các nhãn: |
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|