Načítá se...

Deviation from thermodynamic equilibrium at the initial stage of the GaN growth by metalorganic chemical vapor deposition (MOCVD)

LT-MOCVD growth runs of GaN are conventionally used for the formation of the nucleation layers prior to epitaxial growth of GaN is substantially determined by the low temperature (LT) grown layers. Therefore, study of the LT runs is very important. One of the main concerns of the crystal growth is i...

Celý popis

Uloženo v:
Podrobná bibliografie
Vydáno v:Superficies y vacío
Hlavní autoři: V.A. Elyukhin, G. García Salgado, R. Peña Sierra
Médium: Artigo
Jazyk:Inglês
Vydáno: Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C. 2001
Témata:
GaN
On-line přístup:https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94201325
Tagy: Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo otaguje tento záznam!