Φορτώνει......
On metastable properties of plasma treated amorphous Si:H films
Amorphous hydrogenated silicon (a-Si:H) is well known as a semiconductor with metastable properties. This paper deals with structural and electrical properties of a-Si:H surfaces in virgin state as well as on low-energy ion exposition. Two ion sources were used, namely a monoenergetic ion beam produ...
Αποθηκεύτηκε σε:
| Τόπος έκδοσης: | Superficies y vacío |
|---|---|
| Κύριοι συγγραφείς: | , , , , , , , , |
| Μορφή: | Artigo |
| Γλώσσα: | Inglês |
| Έκδοση: |
Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
2001
|
| Θέματα: | |
| Διαθέσιμο Online: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94201309 |
| Ετικέτες: |
Προσθήκη ετικέτας
Δεν υπάρχουν, Καταχωρήστε ετικέτα πρώτοι!
|