Načítá se...
Ion beam irradiation of thin CaF2 films: A study of lithographic properties
The technological track to ever smaller devices in very and ultra high scale integration schemes with feature sizes lowerthan 1 m, carries classical photolithographic methods to physical limits, and is claiming a transition to lowerwavelength or particle irradiation. New resist materials and exposur...
Uloženo v:
| Vydáno v: | Superficies y vacío |
|---|---|
| Hlavní autoři: | , , |
| Médium: | Artigo |
| Jazyk: | Inglês |
| Vydáno: |
Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
1999
|
| Témata: | |
| On-line přístup: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94200907 |
| Tagy: |
Přidat tag
Žádné tagy, Buďte první, kdo otaguje tento záznam!
|