Đang tải...
Ion beam irradiation of thin CaF2 films: A study of lithographic properties
The technological track to ever smaller devices in very and ultra high scale integration schemes with feature sizes lowerthan 1 m, carries classical photolithographic methods to physical limits, and is claiming a transition to lowerwavelength or particle irradiation. New resist materials and exposur...
Đã lưu trong:
| Xuất bản năm: | Superficies y vacío |
|---|---|
| Những tác giả chính: | , , |
| Định dạng: | Artigo |
| Ngôn ngữ: | Inglês |
| Được phát hành: |
Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
1999
|
| Những chủ đề: | |
| Truy cập trực tuyến: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94200907 |
| Các nhãn: |
Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!
|