Φορτώνει......
Ion beam irradiation of thin CaF2 films: A study of lithographic properties
The technological track to ever smaller devices in very and ultra high scale integration schemes with feature sizes lowerthan 1 m, carries classical photolithographic methods to physical limits, and is claiming a transition to lowerwavelength or particle irradiation. New resist materials and exposur...
Αποθηκεύτηκε σε:
| Τόπος έκδοσης: | Superficies y vacío |
|---|---|
| Κύριοι συγγραφείς: | , , |
| Μορφή: | Artigo |
| Γλώσσα: | Inglês |
| Έκδοση: |
Sociedad Mexicana de Ciencia y Tecnología de Superficies y Materiales A.C.
1999
|
| Θέματα: | |
| Διαθέσιμο Online: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=94200907 |
| Ετικέτες: |
Προσθήκη ετικέτας
Δεν υπάρχουν, Καταχωρήστε ετικέτα πρώτοι!
|