Síntesis de TiN y TiC por la técnica de PAPVD arco pulsado
Los recubrimientos de TiN y TiC se depositaron utilizando la técnica de deposición en fase vapor asistido por plasma (PAPVD)-Arco Pulsado, variando la temperatura del sustrato en valores de 85-100-115°C. Los recubrimientos se analizaron por medio de Dispersión de Fotoelectrones de Rayos X (XPS)) y D...
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| Veröffentlicht in: | Scientia Et Technica |
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| Hauptverfasser: | , , |
| Format: | Artigo |
| Sprache: | Espanhol |
| Veröffentlicht: |
Universidad Tecnológica de Pereira
2012
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| Schlagworte: | |
| Online-Zugang: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=84925149021 |
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