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Calentador de sustratos compacto y de bajo costo para tratamiento térmico in situ de películas delgadas depositadas por rf-sputtering

En este trabajo se presenta el diseño y construcción de un calentador de sustratos de bajo costo, el cual es capaz de operar en sistemas de alto vacío. Su utilización se centra en proporcionar tratamiento térmico in-situ durante el crecimiento de películas delgadas bajo condiciones de presión contro...

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Bewaard in:
Bibliografische gegevens
Gepubliceerd in:Revista Mexicana de Física
Hoofdauteurs: A. Márquez-Herrera, E. Hernández-Rodríguez, M.P. Cruz-Jáuregui, M. Zapata-Torres, A. Zapata-Navarro
Formaat: Artigo
Taal:Espanhol
Gepubliceerd in: Sociedad Mexicana de Física A.C. 2010
Onderwerpen:
Online toegang:https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57016003013
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