Calentador de sustratos compacto y de bajo costo para tratamiento térmico in situ de películas delgadas depositadas por rf-sputtering
En este trabajo se presenta el diseño y construcción de un calentador de sustratos de bajo costo, el cual es capaz de operar en sistemas de alto vacío. Su utilización se centra en proporcionar tratamiento térmico in-situ durante el crecimiento de películas delgadas bajo condiciones de presión contro...
Uloženo v:
| Vydáno v: | Revista Mexicana de Física |
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| Hlavní autoři: | , , , , |
| Médium: | Artigo |
| Jazyk: | Espanhol |
| Vydáno: |
Sociedad Mexicana de Física A.C.
2010
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| Témata: | |
| On-line přístup: | https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57016003013 |
| Tagy: |
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