Calentador de sustratos compacto y de bajo costo para tratamiento térmico in situ de películas delgadas depositadas por rf-sputtering

En este trabajo se presenta el diseño y construcción de un calentador de sustratos de bajo costo, el cual es capaz de operar en sistemas de alto vacío. Su utilización se centra en proporcionar tratamiento térmico in-situ durante el crecimiento de películas delgadas bajo condiciones de presión contro...

முழு விளக்கம்

நூற்பட்டியல் விவரங்கள்

இதில் வெளியிடப்பட்டது:	Revista Mexicana de Física
முதன்மை ஆசிரியர்கள்:	A. Márquez-Herrera, E. Hernández-Rodríguez, M.P. Cruz-Jáuregui, M. Zapata-Torres, A. Zapata-Navarro
வடிவம்:	Artigo
மொழி:	Espanhol
வெளியிடப்பட்டது:	Sociedad Mexicana de Física A.C. 2010
பொருள்கள்:	Física, Astronomía y Matemáticas
ஆன்லைன் அணுகல்:	https://www.redalyc.org/articulo.oa?id=57016003013
குறிச்சொற்கள்:	குறிச்சொல்லை சேர்க்கவும் டாக்‌ஸ் இல்லை, இந்த பதிவுக்கு குறிச்சொல் சேர்க்கும் முதல் நபராக இருங்கள்!