Đang tải...

Expanding 3D Nanoprinting Performance by Blurring the Electron Beam

Additive, direct-write manufacturing via a focused electron beam has evolved into a reliable 3D nanoprinting technology in recent years. Aside from low demands on substrate materials and surface morphologies, this technology allows the fabrication of freestanding, 3D architectures with feature sizes...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Xuất bản năm:Micromachines (Basel)
Những tác giả chính: Seewald, Lukas Matthias, Winkler, Robert, Kothleitner, Gerald, Plank, Harald
Định dạng: Artigo
Ngôn ngữ:Inglês
Được phát hành: MDPI 2021
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC7911092/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/33499214
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3390/mi12020115
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!