تحميل...
The impact of focused ion beam induced damage on scanning spreading resistance microscopy measurements
Scanning Spreading Resistance Microscopy is a well-established technique for obtaining quantitative two- and three-dimensional carrier profiles in semiconductor devices with sub-nm spatial resolution. However, for sub-100 nm devices, the use of focused ion beam becomes inevitable for exposing the re...
محفوظ في:
| الحاوية / القاعدة: | Sci Rep |
|---|---|
| المؤلفون الرئيسيون: | , , , , |
| التنسيق: | Artigo |
| اللغة: | Inglês |
| منشور في: |
Nature Publishing Group UK
2020
|
| الموضوعات: | |
| الوصول للمادة أونلاين: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC7483413/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/32913186 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/s41598-020-71826-w |
| الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|