Ładuje się......
Electrical, Structural, Optical, and Adhesive Characteristics of Aluminum-Doped Tin Oxide Thin Films for Transparent Flexible Thin-Film Transistor Applications
The properties of Al-doped SnO(x) films deposited via reactive co-sputtering were examined in terms of their potential applications for the fabrication of transparent and flexible electronic devices. Al 2.2-atom %-doped SnO(x) thin-film transistors (TFTs) exhibit improved semiconductor characteristi...
Zapisane w:
| Wydane w: | Materials (Basel) |
|---|---|
| Główni autorzy: | , , , , , , , , |
| Format: | Artigo |
| Język: | Inglês |
| Wydane: |
MDPI
2019
|
| Hasła przedmiotowe: | |
| Dostęp online: | https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC6337128/ https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/30609829 https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.3390/ma12010137 |
| Etykiety: |
Dodaj etykietę
Nie ma etykietki, Dołącz pierwszą etykiete!
|