تحميل...

SIMS of Organic Materials—Interface Location in Argon Gas Cluster Depth Profiles Using Negative Secondary Ions

A procedure has been established to define the interface position in depth profiles accurately when using secondary ion mass spectrometry and the negative secondary ions. The interface position varies strongly with the extent of the matrix effect and so depends on the secondary ion measured. Intensi...

وصف كامل

محفوظ في:
التفاصيل البيبلوغرافية
الحاوية / القاعدة:J Am Soc Mass Spectrom
المؤلفون الرئيسيون: Havelund, R., Seah, M. P., Tiddia, M., Gilmore, I. S.
التنسيق: Artigo
اللغة:Inglês
منشور في: Springer US 2018
الموضوعات:
الوصول للمادة أونلاين:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC5889422/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/29468500
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1007/s13361-018-1905-2
الوسوم: إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!