Đang tải...

A new approach to epitaxially grow high-quality GaN films on Si substrates: the combination of MBE and PLD

High-quality GaN epitaxial films have been grown on Si substrates with Al buffer layer by the combination of molecular beam epitaxy (MBE) and pulsed laser deposition (PLD) technologies. MBE is used to grow Al buffer layer at first, and then PLD is deployed to grow GaN epitaxial films on the Al buffe...

Mô tả đầy đủ

Đã lưu trong:
Chi tiết về thư mục
Xuất bản năm:Sci Rep
Những tác giả chính: Wang, Wenliang, Wang, Haiyan, Yang, Weijia, Zhu, Yunnong, Li, Guoqiang
Định dạng: Artigo
Ngôn ngữ:Inglês
Được phát hành: Nature Publishing Group 2016
Những chủ đề:
Truy cập trực tuyến:https://ncbi.nlm.nih.gov/pmc/articles/PMC4840314/
https://ncbi.nlm.nih.gov/pubmed/27101930
https://ncbi.nlm.nih.govhttp://dx.doi.org/10.1038/srep24448
Các nhãn: Thêm thẻ
Không có thẻ, Là người đầu tiên thẻ bản ghi này!